晶圓代工龍頭台積電宣布推出12奈米世代的N12e綠色製程技術,特別針對支援人工智慧(AI)及5G的物聯網裝置及高效能邊緣運算裝置。台積電表示,隨著物聯網裝置演進至5G與AI時代,需要嶄新的基本半導體技術來支援更高效能、更佳功率、更低漏電的要求,N12e製程能夠在各種產品特性要求之間提供最佳的平衡。

N12e製程是台積電最先進的超低功耗製程技術,針對邊緣AI裝置進行最佳化。N12e建立在台積電12奈米12FFC+製程技術的基礎上,可以重複使用現有的矽智財(IP)生態系統。台積電表示,這是第一種使用鰭式場效電晶體(FinFET)的超低功耗製程技術,支援超低漏電裝置和低至0.4V的超低晶片工作電壓(Vdd)設計。

目前市場上首波的物聯網裝置包括連結式喇叭、智慧門鈴、連結式安全監控攝影機、智慧手錶、穿戴式裝置等,這些裝置擁有創新性且突破了技術的界限,但是仍然存在些許限制。

下一世代的AI及5G物聯網裝置將會有所轉變進化,在邊緣端提供嶄新層次的智慧化及強大功能性,包括更強大、更複雜的AI神經網路,更能夠模擬人類的大腦,深層神經網路(Deep Neural Network,DNN)與卷積神經網路(Convolutional neural network,CNN)能夠提供邊緣裝置能力,遠勝現今的物聯網裝置。

台積電認為,AI與5G加強版物聯網裝置將依種類與功能展現多樣性,半導體技術必須日益精進。FinFET電晶體在微縮、效能、功耗效率、漏電上都有重大突破與躍進,目前台積電量產的最先進5奈米製程即是採用FinFET技術。

(新聞來源:工商時報─記者涂志豪/台北報導) 。