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《科技》英特爾7奈米採EUV技術

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隨著晶圓代工廠台積電(2330)及記憶體廠三星電子的7奈米邏輯製程均支援極紫外光(EUV)微影技術,並會在2019年進入量產階段,半導體龍頭英特爾也確定正在開發中的7奈米製程會支援新一代EUV技術。法人表示,三大半導體廠支援EUV的7奈米製程將在2020年之後放量,打進英特爾及台積電EUV光罩盒供應鏈的家登(3680)將成為最大受惠者。

 英特爾10奈米製程推進不如預期,導致14奈米產能供不應求,並造成2018年第四季以來的處理器缺貨問題,預期要等到2019年第二季才會獲得紓解。英特爾日前已宣布將擴大資本支出提升產能,並且預期10奈米Ice Lake處理器將在今年第四季量產出貨。

 至於英特爾未來製程微縮計畫,據外電報導,掌管英特爾製程及製造業務技術及系統架構事業的總裁兼首席工程師Murthy Renduchintala日前指出,10奈米製程與2014年訂定的製程標準相同,不論性能、密度、功耗等都保持不變。另外,有了10奈米的製程研發經驗,英特爾7奈米發展良好,並將加入新一代EUV微影技術,由於10奈米及7奈米是由不同團隊開發,7奈米EUV製程不會受到10奈米製程延遲影響。不過,英特爾未提及7奈米何時可進入量產。

 業界指出,台積電及三星的7奈米EUV製程2019年逐步提升產能,但要開始真正大量進行投片量產,應該要等到2020年之後。英特爾的7奈米EUV製程要真正進入生產階段,預期也要等到2020年或2021年之後。不過,以三大半導體廠的計畫來看,EUV微影技術將成為7奈米及更先進製程的主流。

 隨著EUV製程進入量產階段,全球可提供EUV光罩盒的業者只有兩家,家登是其中之一。家登新一代EUV光罩傳送盒G/GP Type在2018年底獲得設備大廠艾司摩爾(ASML)認證通過,雙版本傳送盒可支援ASML的量產型EUV機台NXE: 3400B機型及未來更先進的機型。家登表示,看好2019年半導體大廠開始採用EUV技術,家登光罩傳送盒可望放量出貨,目前產能已供不應求,並積極擴產因應,對今年營運樂觀。(新聞來源:工商時報─涂志豪/台北報導)