《科技》新思科傳捷報,設計平台獲台積電5奈米製程認證

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新思科技(Synopsys)宣布,新思數位及客製化設計平台的多項新創新功能,已獲得高性能計算(HPC)及行動晶片設計所需的台積電最先進5奈米製程技術的認證,除了在HPC及行動設計流程獲得認證外,新思的設計工具,也已獲得業界領先的台積電(2330)N5P及N6製程技術的認證,可協助使用相關製程的早期客戶進行設計工作。

新思設計事業群行銷及策略副總裁Michael Sanie表示,這項與台積電的最新合作,將提供HPC及行動設計客戶更好的支持,而透過最新的解決方案以優化性能、功耗及邏輯閘密度,並幫助客戶準時上市,如何協助客戶達成在設計及上市時間的要求,對新思是很重要的課題,而HPC及行動市場的快速創新,促使系統晶片開發小組探索如何善用5奈米製程技術。

HPC及行動設計流程中各種強化的設計工具,可協助設計工程師在邏輯閘密度、性能及功耗等方面,發揮台積電5奈米製程優於上一代製程節點的優勢,新思從規畫及布局開始,在處理5奈米的間距、連接及邊界單元插入的新布局規則方面,創建了Synopsys DesignCompiler圖像合成及IC Compiler II布局繞線工具的新功能;在行動設備的超低功耗需求方面,低漏電電池的種類及使用需求增加,因此,新思也強化了IC Compiler II,以處理低漏電電池在合法布置上、日益增長的複雜性。

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