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《科技》億光中國專利案撤訴,日亞獲勝

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日亞於中國對億光(2393)專利訴訟獲得勝利,億光中國先前就547號專利對日亞及日亞客戶向深圳市中級人民法院所提起之專利侵害訴訟(案號:2017粵03民初2283及2284號),亦因億光中國撤回起訴而告終結。

 日亞針對億光電子(中國)有限公司(下稱「億光中國」)關於覆晶晶片技術之中國專利(專利申請號:ZL200710161547.X;下稱「547號專利」)提出專利無效宣告請求,中國國家知識產權局近日作成審查決定(案件編號:4W108258),肯認日亞之主張,宣告547號專利全部無效。

 中國國家知識產權局作成上述決定後,億光中國先前就547號專利對日亞及日亞客戶向深圳市中級人民法院所提起之專利侵害訴訟(案號:2017粵03民初2283及2284號),亦因億光中國撤回起訴而告終結。

 此外,日亞前於2019年1月就其控告億光中國及其中國經銷商之YAG專利侵害訴訟取得勝訴判決(http://www.nichia.co.jp/specification/about_nichia/press/2019_012801-C01.pdf),此判決亦已確定,日亞並獲得億光中國及其經銷商共計人民幣320萬元之損害賠償。